Now showing items 1-2 of 2

    • Влияние верхнего оксидного слоя в оптических микрорезонаторах на основе нитрида кремния 

      Пархоменко, И. Н.; Власукова, Л. А.; Комаров, Ф. Ф.; Романов, И. А.; Альжанова, А. Е.; Демидович, С. А.; Ковальчук, Н. С. (БНТУ, 2022)
      Структуры SiNx/SiOx и SiOx/SiNx/SiOx были изготовлены на кремниевых подложках методами химического осаждения (PECVD, LPCVD). Показано, что верхний слой оксида кремния защищает нижележащий нитридный слой от непреднамеренного окисления во время быстрого термического отжига в инертной среде (1100 °C, 3 мин). Кроме того, верхний слой оксида кремния увеличивает выход фотолюминесценции ...
      2022-12-28
    • Пленки SinX с низкими механическими напряжениями для микросистемных применений, синтезированные в ICP-реакторе 

      Ковальчук, Н. С.; Демидович, С. А.; Комаров, Ф. Ф.; Власукова, Л. А.; Пархоменко, И. Н. (БНТУ, 2022)
      Пленки SiNx с механическими напряжениями в диапазоне от –10 до –625 МПа синтезированы в реакторе индуктивно-связанной плазмы (ICP) из смеси «SiH4 – N2 – Ar». Обогащение нитридных пленок азотом приводит к снижению механических напряжений до –10 МПа. При подъеме мощности ICP-источника механические напряжения возрастают вплоть до –625 МПа при 800 Вт. Варьирование температуры осаждения ...
      2022-12-28